昨日盤后，國新辦就中國科學院“率先行動”計劃第一階段實施進展情況舉行發(fā)布會。

發(fā)布會上，中科院院長白春禮表示：面臨美國對中國高科(600730,股吧)技產業(yè)的打壓，我們希望在這方面能做一些工作。我們把美國“卡脖子”的清單變成我們科研任務清單進行布局，比如航空輪胎、軸承鋼、光刻機，還有一些關鍵的核心技術、關鍵原材料等，我們爭取將來在第二期，聚焦在國家最關注的重大的領域，集中我們全院的力量來做。

目前高精度的光刻機只有荷蘭、美國、日本、德國等少數(shù)企業(yè)掌握，其中荷蘭的阿斯麥公司(ASML)更是其中的龍頭老大，并已經占據了高達80%的市場份額，壟斷高端光刻機市場。

據悉，目前最先進的EUV光刻機精度為7納米，售價曾高達1億美元一臺，且全球僅僅ASML能夠生產。而英特爾、三星和臺積電都是ASML的股東，享有光刻機的優(yōu)先供貨權。

與此同時，中國自主生產的光刻機精度約為90納米級別，與世界最先進水平大約有15年的技術差距。

芯片制造是我國最大的短板，芯片制造始終繞不開光刻機，直接制約著中國高科技企業(yè)的持續(xù)健康發(fā)展。

其實這些年來，國內早就有設備廠商，以及研究機構在對光刻機進行研發(fā)。如上海微電子、中電科四十五所、中電科四十八所等。

目前我國的北斗三號芯片目前已經成功突破了22納米的限制，它所配套的上海微電子技術也取得了重大突破，成功研制出了22nm的光刻機。

方正證券(601901,股吧)陳杭認為光刻機國產替代將迎來新的曙光，尤其是IC前道制造領域，將初步打破國外巨頭完全壟斷的局面，實現(xiàn)從0到1的突破。

建議關注以舉國之力助力國產替代的光刻產業(yè)鏈，一是光刻機核心組件：負責整體集成的上海微電子、負責光源系統(tǒng)的科益虹源，負責物鏡系統(tǒng)的國望光學，負責曝光光學系統(tǒng)的國科精密，負責雙工作臺的華卓精科，負責浸沒系統(tǒng)的啟爾機電;二是光刻配套設施：包括光刻膠，光刻氣體，光掩模版，光刻機缺陷檢測設備，涂膠顯影設備等。

財聯(lián)社整理光刻機相關概念股包括萬業(yè)企業(yè)(600641,股吧)、張江高科(600895,股吧)、奧普光電(002338,股吧)、晶方科技(603005,股吧)、上海新陽(300236,股吧)等。